VTL1600-I立式管式炉以硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,炉膛分为左右两个半圆,需要急速冷却或换管子时,可以侧面打开炉膛,炉管两端能不锈钢法兰密封,不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表,抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,该炉为立式炉,炉管固定于支撑架上,分别有支架固定炉管和法兰,使用方便,操作简单,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品.。
软件控制系统:该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。
VTL1600-I立式管式炉详细技术参数 :
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